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钼靶材是一种用于溅射镀膜工艺的高质量金属材料,由于钼的高熔点和热稳定性,钼靶材在高温溅射工艺中表现优质,具有卓越的性能和广泛的用途。我们的钼靶材具有很高的化学纯度以确保薄膜沉积过程中的高质量和可靠性;还拥有均匀的微观结构,有助于产生均匀、稳定的薄膜。钼靶材被广泛应用于半导体制造中,用于制备导电层、光学薄膜和其他功能性薄膜。在光学领域,钼靶材也可用于制备高反射率镜片、光学涂层和其他光学元件。
品名
钼靶材
成分
Mo
外观
银白
纯度(%)
≥99.95%
相对密度
≥99.9%
规格(mm)
ϕ135×ϕ171×L2700、ϕ125×ϕ151×L2270、W290×L2394×T15、W200×L2650×T18
杂质≤ (ppm)
Fe
Al
Si
Ni
Cu
Cr
Sum
100
50
500
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