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铜靶材是用于（PVD）工艺的重要材料，它具有卓越的导电性、导热性和化学稳定性，且可塑性强，易于加工和成型，可制备不同形状和尺寸的靶材以适应不同的溅射设备。广泛用于电子、半导体和光学领域、多个工业领域，用于制备导电薄膜和电子元件。此外还可用于装饰材料、光学图层、电子设备散热，太阳能电池的电极等。
品名
铜靶材
成分
Cu
外观
铜色，平板或者圆筒状
纯度(%)
99.99%
规格(mm)
ϕ125×ϕ155×L1188、ϕ125×ϕ171×L2940、W1130×L1200×T10
杂质≤ (ppm)
Fe
Pb
As
Ni
Sb
Mn
Mg
Sn
Zn
Bi
Sum
30
10
20
100
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