溅射靶材作为一种用于制备薄膜的材料，在半导体工业中扮演着关键角色。 靶材通过溅射工艺在半导体晶片表面沉积薄膜，实现对半导体器件导电性 能与电子迁移性能的精准控制。
金属、合金或氧化物等材料通过溅射工艺沉积在显示屏的基底上，形 成薄膜，从而调控光学和电学性质。这种定向控制使得显示屏具备更 好的对比度、颜色鲜艳度以及更快的响应速度。
高纯度金属、合金或化合物材料通过溅射工艺沉积到太阳能电池的表面形成薄膜。优良的靶材可以调整光吸收、电子传输和光电转换效率，从而提高太阳能电池的整体性能。
溅射靶材在玻璃工业中被广泛应用，通过溅射工艺，将金属、合金、ITO或其他相变材料以高能量沉积到玻璃表面，创造出导电、反射性或防反射性、电致变色涂层，可提高玻璃隔热性能，降低能源消耗。
在半导体制造中，高纯金属用于制备晶体管和集成电路，确保电子传导的高效性。电子工业中，高纯金属是制造电子元器件和导电线材的优选材料。此外，高纯金属在光学领域广泛应用
氧化铟锡（ITO）靶材是一种常用于光电子器件和显示器件制备的关键材料，具有优良的透明性和导电性，可用于..
铝掺杂氧化锌(AZO)靶材是一种高导电性材料，通常用于制备透明导电薄膜。AZO薄膜在可见光范围内表现出良好的..
氧化铌靶材有良好的化学稳定性和电学性能，同时还具有较好的透明性和抗反射性，因此可用于光学镜片和涂层，..
氧化镓粉末是氧化镓的微粉末形式，通常为白色或浅灰色。氧化镓是一种用于半导体材料和其他高科技应用的多功..
氧化铟粉末是氧化铟的微粉末形式，通常呈白色或淡黄色。氧化铟具有良好的导电性，适用于制备高透明度和高导..
铜靶材是用于（PVD）工艺的重要材料，它具有卓越的导电性、导热性和化学稳定性，且可塑性强，易于加工和成型..
高纯铟是一种多功能的金属材料，适用于多个高科技领域，具有高纯度、低熔点和导电性等特点，在低温实验、半导..
高纯镓金属是一种在半导体工业、太阳能电池制造和半导体激光器制备中至关重要的材料。其优异的化学纯度、半导..
2017年
60000㎡
43项
2亿元
2024-08-29
2024-08-14
2024-07-04
2024-05-28
2024-04-25
2024-04-01
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